Rezumat articol ediţie STUDIA UNIVERSITATIS BABEŞ-BOLYAI

În partea de jos este prezentat rezumatul articolului selectat. Pentru revenire la cuprinsul ediţiei din care face parte acest articol, se accesează linkul din titlu. Pentru vizualizarea tuturor articolelor din arhivă la care este autor/coautor unul din autorii de mai jos, se accesează linkul din numele autorului.

 
       
         
    STUDIA PHYSICA - Ediţia nr.2 din 2013  
         
  Articol:   THE INFLUENCE OF PROCESSING PARAMETERS ON STRUCTURE OF Al-ZnO THIN FILMS.

Autori:  D. MARCONI, A.V. POP. 		 
       
         
  Rezumat:  ZnO and 1.5%Al-doped ZnO (Al:ZnO) thin films were deposited on glass substrate using RF magnetron sputtering technique. The influence of substrate-target distance and the partial pressure of oxygen in sputtering gas on the structure of thin films is analyzed by X-Ray diffraction (XRD). From (XRD), it is found that all films are highly oriented with their crystallographic c-axis perpendicular to the substrate and that the grain size is influenced by both target-substrate distance and oxygen concentration in flow sputtering gas.

Keywords: Al-ZnO thin films, RF magnetron sputtering, XRD. 		 
         
     
         
         
      Revenire la pagina precedentă