Rezumat articol ediţie STUDIA UNIVERSITATIS BABE┼×-BOLYAI

În partea de jos este prezentat rezumatul articolului selectat. Pentru revenire la cuprinsul ediţiei din care face parte acest articol, se accesează linkul din titlu. Pentru vizualizarea tuturor articolelor din arhivă la care este autor/coautor unul din autorii de mai jos, se accesează linkul din numele autorului.

 
       
         
    STUDIA PHYSICA - Ediţia nr.1-2 din 2018  
         
  Articol:   OPTIMIZATION OF TITANIUM NITRIDE FILM SYNTHESIS: CORRELATIONS BETWEEN THE STRUCTURE / MICRO-HARDNESS AND DEPOSITION CONDITIONS.

Autori:  MARIANA POP, G. NEGREA, A. POP.
 
       
         
  Rezumat:  
DOI: 10.24193/subbphys.2018.07

Published Online: 2018-12-20
Published Print: 2018-12-20
pp. 75-88

VIEW PDF

FULL PDF

The DC sputtering method based on the variation of the potential of target function of nitrogen flow rate, for the deposition of titanium nitride (TiN) films, with the elementary chemical composition close to the stoichiometric one is presented. The process control method used in these experiments is the identification of the nitrogen flow required for the deposition of stoichiometric TiN layers by using the target potential as the reference parameter. The effects of the nitrogen flow, polarization voltage and discharge current on the structure, microstructure and micro-hardness of TiN films was studied.

Keywords: TiN films, DC sputtering, XRD, hardness.
 
         
     
         
         
      Revenire la pagina precedentă