Rezumat articol ediţie STUDIA UNIVERSITATIS BABEŞ-BOLYAI
În partea de jos este prezentat rezumatul articolului selectat. Pentru revenire la cuprinsul ediţiei din care face parte acest articol, se accesează linkul din titlu. Pentru vizualizarea tuturor articolelor din arhivă la care este autor/coautor unul din autorii de mai jos, se accesează linkul din numele autorului.
Autori: A.V. POP, I. POP, S. MANOLACHE.
The target and growth conditions (sputtering pressure, substrate temperature, d. c. plasma power and sputtering gas composition) for the deposition of thin Bi:2212 films by d. c. magnetron sputtering have been optimized.
X-ray diffraction shows that the films are single phase, oriented with their c-axis perpendicular to the substrate surface. Transport properties investigated by electrical resistivity function of temperature show the influence of substrate temperature on the intergrowth defects.
Keywords: Bi:2212 thin film, DC magnetron sputtering, growth conditions, XRD, resistivity.
