Rezumat articol ediţie STUDIA UNIVERSITATIS BABEŞ-BOLYAI

În partea de jos este prezentat rezumatul articolului selectat. Pentru revenire la cuprinsul ediţiei din care face parte acest articol, se accesează linkul din titlu. Pentru vizualizarea tuturor articolelor din arhivă la care este autor/coautor unul din autorii de mai jos, se accesează linkul din numele autorului.

In this paper we present a detailed structural study of epitaxial TiN thin films deposited on biaxially textured Ni- 5%at.W (NiW) substrates by reactive magnetron sputtering. NiW substrates are used as a base material in coated conductors manufacturing. TiN is used as a buffer layer between NiW and YBCO. Structural investigations were carried out using X-ray diffraction. Based on X-rays diffraction analysis it was concluded that the TiN film grew epitaxially on NiW substrates.

Keywords: titanium nitride, thin films, epitaxy, sputtering deposition